專利說明書是專利申請/專利文件的關鍵組成部分。其作用是明白、完全地解釋權力要求，使大眾能夠精確地懂得發(fā)明創(chuàng)造的內(nèi)容，明確專利權力保護的界線。

就我國目前的專利說明書而言，主要包含以下內(nèi)容：發(fā)明名稱、技術范疇、背景技術、發(fā)明內(nèi)容、附圖說明（可選）和具體實行例。每個部分都起側重要的作用。

發(fā)明名稱

對于一般發(fā)明名稱，名稱越簡單越好，技術特征越少越好，盡量不要涌現(xiàn)表達水平的詞。

這種分別主要是因為專利制度對權力要求的籠罩規(guī)模有嚴厲的要求。一般來說，發(fā)明名稱應作為權力要求的標題。依據(jù)綜合籠罩理論，權力要求標題中的技術特點也應視為權力要求保護的技術計劃的組成部分，表達水平的詞會導致權力要求保護的規(guī)模不明白。因此，對于發(fā)明名稱，越簡單越好，不必擔憂與其他專利申請相同的發(fā)明名稱，因為這種情形不會影響發(fā)明本身。

背景技術

背景技術的描寫著重于深度，導致現(xiàn)有技術的缺點。一般來說，可以引用更接近本發(fā)明技術計劃的專利或論文進行對比。例如，在背景技術中，發(fā)明者可以描寫不同的技術解決計劃來解決同一問題，并指出各種技術解決計劃的缺點，也可以一般地解釋現(xiàn)有技術的缺點。

需要注意的是，中美專利說明書也有很大分別。在中國的專利說明書中，背景技術一般描寫了現(xiàn)有技術中存在的問題；現(xiàn)有專利文獻說明技術的缺點一般應引用于美國的專利說明書。

發(fā)明內(nèi)容

目前，我國的專利制度要求發(fā)明內(nèi)容包含技術問題、技術解決計劃和有益后果，對次序沒有嚴厲的要求。但是，技術解決計劃至少需要包含保護獨立權力要求的技術解決計劃，但在專利實踐中，發(fā)明內(nèi)容部分一般會寫下屬權力要求的特征，其好處是避免在未來的實際審查階段修正說明。

需要注意的是，由于技術問題在背景技術中一般都有明白的說明，因此在發(fā)明的內(nèi)容部分不需要反復描寫，一般簡稱為解決上述技術問題。

附圖說明

在附圖描寫中，需要稍微處置一下圖的名稱，區(qū)分那些是現(xiàn)有技術，那些是本發(fā)明提出的技術計劃。

具體實行辦法

具體實行辦法的撰寫不僅可以包含更佳實現(xiàn)計劃，還可以包含次優(yōu)實現(xiàn)計劃，還可以包含簡單變形后依據(jù)更佳或次優(yōu)實現(xiàn)計劃獲得的實現(xiàn)計劃。因此，在撰寫專利說明書時，我們必需跳出寫論文的模式，通過發(fā)散思維，在專利說明書中提供更多的實行例。

以上就是撰寫專利說明書的辦法，希望對您有所幫助。

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